Équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Fournir des solutions globales personnalisées pour fabrication additive métallique haute performance et traitement de surface conformément aux besoins des clients, afin de répondre à leurs exigences accrues en matière de technologies de fabrication avancées

Catégorie Équipements

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Équipement de dépôt chimique en phase vapeur organométallique GSTXCVD MOCVD

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur organométallique GSTXCVD MOCVD

L'équipement MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) est principalement utilisé pour la croissance épitaxiale de matériaux semi-conducteurs composés tels que le GaN, le GaAs et l'InP. En...

Four CVD haute température sous vide GSTXCVD VHTCVD

Four CVD haute température sous vide GSTXCVD VHTCVD

Le four CVD sous vide à haute température utilise le dépôt chimique en phase vapeur à haute température pour déposer divers films minces sur la surface de la pièce. Il est...

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur basse pression GSTXCVD LPCVD

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur basse pression GSTXCVD LPCVD

L'équipement de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression LPCVD (recherche scientifique LPCVD) dépose divers films fonctionnels (principalement des films Si₃N₄, SiO₂ et Poly silicium) sur des substrats par réaction chimique...

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma GSTXCVD PECVD

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma GSTXCVD PECVD

L'équipement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) est principalement utilisé pour la croissance de films minces de nitrure et d'oxyde de silicium dans un...

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur à fil chaud GSTXCVD HFCVD

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur à fil chaud GSTXCVD HFCVD

Nous avons développé, conçu et fabriqué des équipements de diamant CVD à fil chaud, qui sont divisés en deux types : les équipements expérimentaux et les équipements de production. L'équipement est...

Équipement de dépôt CVD/PECVD GSTXCVD

Équipement de dépôt CVD/PECVD GSTXCVD

Le CVD fait référence à une réaction en phase gazeuse à haute température, telle que la décomposition thermique d'halogénures métalliques, de métaux organiques, d'hydrocarbures,...

Équipement de four de dépôt chimique en phase vapeur horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

Équipement de four de dépôt chimique en phase vapeur horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

Le four horizontal de dépôt chimique en phase vapeur (SiC, BN) peut être utilisé pour le revêtement de surface des matériaux, la modification des substrats, la préparation des matériaux composites, etc. Principalement utilisé dans les...

Structure carrée, ronde, verticale ou horizontale (conception non standard et personnalisation) GST-CVD1600 chauffage par induction CVD chimique

Four de dépôt chimique en phase vapeur CVD à chauffage par induction GST-CVD1600 à structure carrée, ronde, verticale ou horizontale (conception et personnalisation non standard)

Le four de dépôt chimique en phase vapeur CVD est un équipement essentiel pour la production de matériaux composites C/C, largement utilisés dans les secteurs de l'aérospatiale, de la défense,...

Four de dépôt chimique en phase vapeur CVD à chauffage par induction GST-CVD1200

Four de dépôt chimique en phase vapeur CVD à chauffage par induction GST-CVD1200

Le four de dépôt chimique en phase vapeur CVD est un équipement essentiel pour la production de matériaux composites C/C, largement utilisés dans les secteurs de l'aérospatiale, de la défense,...