Оборудование для химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Предоставлять индивидуальные комплексные решения для высокопроизводительное аддитивное производство металлов и обработка поверхностей в соответствии с потребностями клиентов, чтобы удовлетворить более высокие требования клиентов к передовым производственным технологиям
Категория оборудования
Оборудование для 3D-печати металлом методом DED (лазерная аддитивная производственная система)
Оборудование для лазерной наплавки
Оборудование для внешней цилиндрической лазерной наплавки
Оборудование для лазерной наплавки внутренних цилиндрических поверхностей
Мобильное роботизированное оборудование для лазерной наплавки
Оборудование для лазерной наплавки на заказ
Оборудование для сверхскоростной лазерной наплавки
Другие станки для лазерной наплавки
Все оборудование
Оборудование для лазерной закалки
Оборудование для лазерной сварки
Оборудование для лазерной очистки
Оборудование для нанесения покрытий методом холодного напыления с добавками
Компоненты оборудования и программное обеспечение
Компоненты, расходные материалы и программное обеспечение для лазерной наплавки
Компоненты, расходные материалы и программное обеспечение для лазерной закалки
Компоненты, расходные материалы и программное обеспечение для лазерной очистки
Компоненты, расходные материалы и программное обеспечение для лазерной сварки
Прочие компоненты оборудования, расходные материалы и программное обеспечение
Все компоненты и программное обеспечение
Свяжитесь с нами
GSTXCVD MOCVD Оборудование для химического осаждения из паровой фазы металлоорганических соединений
Оборудование MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) в основном используется для эпитаксиального роста сложных полупроводниковых материалов, таких как GaN, GaAs и InP. Точно...
GSTXCVD VHTCVD Оборудование для вакуумной высокотемпературной CVD-печи
Вакуумная высокотемпературная CVD-печь использует высокотемпературное химическое осаждение из паровой фазы для нанесения различных тонких пленок на поверхность заготовки. Она...
GSTXCVD LPCVD Оборудование для химического осаждения паров при низком давлении
Оборудование для химического осаждения паров при низком давлении LPCVD (научно-исследовательское LPCVD) позволяет наносить различные функциональные пленки (в основном пленки Si₃N₄, SiO₂ и поликремниевые пленки) на подложки путем химической реакции...
Оборудование для химического осаждения из паровой фазы с плазменным усилением GSTXCVD PECVD
Оборудование для химического осаждения из паровой фазы с плазменным PECVD в основном используется для выращивания тонких пленок нитрида кремния и оксида кремния в чистом вакууме...
Оборудование для химического осаждения паров горячей проволокой GSTXCVD HFCVD
Мы разработали, спроектировали и изготовили алмазное оборудование CVD с горячей проволокой, которое делится на два типа: экспериментальное оборудование и производственное оборудование. Оборудование...
Оборудование для осаждения CVD/PECVD GSTXCVD
Химическое осаждение из газовой фазы относится к газофазной реакции при высокой температуре, такой как термическое разложение галогенидов металлов, органических металлов, углеводородов и т. д., восстановление водородом или...
Оборудование для горизонтальной печи химического осаждения из паровой фазы GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)
Горизонтальная печь химического осаждения из паровой фазы (SiC, BN) может использоваться для нанесения покрытий на поверхность материалов, модификации подложки, подготовки композитных материалов и т. д. В основном используется в термической...
Квадратная, круглая, вертикальная или горизонтальная конструкция (нестандартный дизайн и изготовление на заказ) GST-CVD1600 индукционный нагрев CVD химическое парофазное осаждение печное оборудование
Печь для химического осаждения из паровой фазы (CVD) является важнейшим оборудованием для производства композиционных материалов C/C, широко используемых в аэрокосмической, оборонной и других отраслях промышленности.
GST-CVD1200 индукционный нагрев CVD химическое парофазное осаждение печь оборудование
Печь для химического осаждения из паровой фазы (CVD) является важнейшим оборудованием для производства композиционных материалов C/C, широко используемых в аэрокосмической, оборонной и других отраслях промышленности.