El equipo de deposición química en fase vapor a baja presión LPCVD (LPCVD de investigación) deposita diversas películas funcionales (principalmente películas de Si3N4, SiO2 y polisilicio) sobre sustratos mediante epitaxia en fase vapor de reacción química en condiciones de baja presión y alta temperatura. Puede utilizarse para la investigación científica, la enseñanza práctica y la fabricación de pequeños dispositivos.

Estructura y características del equipo
1. Miniaturización, cómodo funcionamiento y uso en el laboratorio, lo que reduce considerablemente los costes experimentales.
Dos tamaños de sustrato de 2 ó 4 pulgadas; se cargan de 1 a 3 piezas cada vez.
Método de colocación del sustrato: se configuran tres tipos de soportes de sustrato, vertical, horizontal y con un ángulo.
Tipo de forma del sustrato: piezas sueltas de forma irregular, sustratos estándar de φ2 a 4 pulgadas.
2. El equipo es una estructura horizontal de tubo horizontal
Consta de una cámara de reacción de tubo de cuarzo, un armario de horno de blindaje térmico, un sistema de control eléctrico, un sistema de vacío, un sistema de circuito de gas, un sistema de control de temperatura, un sistema de control de presión y un armario de cilindro de gas.
La cámara de reacción está hecha de cuarzo de alta pureza, que es resistente a la corrosión, anticontaminación, tiene un bajo índice de fugas y es adecuada para el uso a alta temperatura; la parte de control electrónico del equipo adopta un sistema avanzado de detección y control, con valores precisos y un funcionamiento estable y fiable.
3. El sistema proporciona un control automático y un dispositivo libre de polvo

Equipo de deposición química en fase vapor a baja presión LPCVD (tipo de producción LPCVD)
Función del equipo
El equipo deposita diversas películas funcionales (principalmente películas de Si3N4, SiO2 y polisilicio) sobre el sustrato mediante epitaxia en fase de vapor por reacción química en condiciones de baja presión y alta temperatura.
Se pueden proporcionar procesos de revestimiento relacionados.

Estructura y características del equipo:
El equipo es una estructura horizontal de tubo horizontal, que consta de una cámara de reacción de tubo de cuarzo, un armario de horno con cubierta de aislamiento térmico, un sistema de control eléctrico, un sistema de vacío, un sistema de circuito de gas, un sistema de control de temperatura, un sistema de control de presión y un armario de cilindro de gas.
La cámara de reacción está hecha de cuarzo de alta pureza, que es resistente a la corrosión, anticontaminación, tiene un bajo índice de fugas y es adecuada para el uso a alta temperatura; la parte de control electrónico del equipo adopta un sistema avanzado de detección y control, con valores precisos y un funcionamiento estable y fiable.
Todo el proceso está gestionado por un ordenador, que supervisa y controla automáticamente parámetros del proceso como la temperatura del horno, el caudal de gas, la presión, la acción de las válvulas, la apertura y cierre de las bombas, etc. También puede controlarse manualmente.