Equipo de deposición química de vapor (CVD)
Proporcionar soluciones integrales personalizadas para Fabricación aditiva de metales de alto rendimiento y tratamiento superficial de acuerdo con las necesidades del cliente para satisfacer sus mayores exigencias en cuanto a tecnología de fabricación avanzada.
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Equipo de impresión 3D de metal DED (sistema de fabricación aditiva láser)
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Equipo de deposición química en fase de vapor (GSTXCVD MOCVD)
Los equipos MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) se utilizan principalmente para el crecimiento epitaxial de materiales semiconductores compuestos como GaN, GaAs e InP. Mediante...
Equipo de horno CVD de alta temperatura al vacío GSTXCVD VHTCVD
El horno CVD de vacío de alta temperatura utiliza la deposición química de vapor a alta temperatura para depositar diversas películas finas en la superficie de la pieza de trabajo. Es...
Equipo de deposición química de vapor a baja presión GSTXCVD LPCVD
El equipo de deposición química en fase vapor a baja presión LPCVD (investigación científica LPCVD) deposita diversas películas funcionales (principalmente películas de Si₃N₄, SiO₂ y Poli silicio) sobre sustratos mediante reacción química....
Equipo de deposición química en fase de vapor mejorada con plasma (GSTXCVD PECVD)
Los equipos de deposición química en fase vapor mejorada por plasma PECVD se utilizan principalmente para el crecimiento de películas finas de nitruro de silicio y óxido de silicio en un vacío limpio....
Equipo de deposición química de vapor por hilo caliente GSTXCVD HFCVD
Hemos desarrollado, diseñado y fabricado equipos de diamante CVD de hilo caliente, que se dividen en dos tipos: equipos experimentales y equipos de producción. Los equipos se...
Equipo de deposición CVD/PECVD GSTXCVD
La CVD se refiere a una reacción en fase gaseosa a alta temperatura, como la descomposición térmica de haluros metálicos, metales orgánicos, hidrocarburos, etc., la reducción de hidrógeno...
Equipo de horno de deposición química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)
El horno horizontal de deposición química de vapor (SiC, BN) puede utilizarse para el revestimiento superficial de materiales, la modificación de sustratos, la preparación de materiales compuestos, etc. Se utiliza principalmente en...
Equipo de horno de deposición química de vapor por CVD con calentamiento por inducción GST-CVD1600, con estructura cuadrada, redonda, vertical u horizontal (diseño no estándar y personalización)
El horno de deposición química en fase vapor CVD es un equipo fundamental para la producción de materiales compuestos de C/C, ampliamente utilizados en los sectores aeroespacial, de defensa,...
Equipo de horno de deposición química de vapor por CVD con calentamiento por inducción GST-CVD1200
El horno de deposición química en fase vapor CVD es un equipo fundamental para la producción de materiales compuestos de C/C, ampliamente utilizados en los sectores aeroespacial, de defensa,...