Equipamento de deposição química de vapor (CVD)

Fornecer soluções abrangentes e personalizadas para Fabricação aditiva de metais de alto desempenho e tratamento de superfície De acordo com as necessidades do cliente, para atender às suas crescentes demandas por tecnologia de fabricação avançada.

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Equipamento de deposição química de vapor orgânico de metal GSTXCVD MOCVD

Equipamento de deposição química de vapor orgânico de metal GSTXCVD MOCVD

O equipamento MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) é utilizado principalmente para o crescimento epitaxial de materiais semicondutores compostos, como GaN, GaAs e InP. Através de...

Equipamento de forno CVD de alta temperatura a vácuo GSTXCVD VHTCVD

Equipamento de forno CVD de alta temperatura a vácuo GSTXCVD VHTCVD

O forno CVD a vácuo de alta temperatura utiliza a deposição de vapor químico a alta temperatura para depositar várias películas finas na superfície da peça de trabalho. É...

Equipamento de deposição química de vapor de baixa pressão GSTXCVD LPCVD

Equipamento de deposição química de vapor de baixa pressão GSTXCVD LPCVD

O equipamento de deposição de vapor químico de baixa pressão LPCVD (pesquisa científica LPCVD) deposita vários filmes funcionais (principalmente Si₃N₄, SiO₂ e filmes de poli-silício) em substratos por reação química...

Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma GSTXCVD PECVD

Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma GSTXCVD PECVD

O equipamento de deposição de vapor químico melhorado por plasma PECVD é utilizado principalmente para o crescimento de películas finas de nitreto de silício e de óxido de silício em vácuo limpo...

Equipamento de deposição química de vapor de fio quente GSTXCVD HFCVD

Equipamento de deposição química de vapor de fio quente GSTXCVD HFCVD

Desenvolvemos, projectamos e fabricamos equipamento de diamante CVD de fio quente, que se divide em dois tipos: equipamento experimental e equipamento de produção. O equipamento é...

Equipamento de deposição de CVD/PECVD GSTXCVD

Equipamento de deposição de CVD/PECVD GSTXCVD

A CVD refere-se a uma reação em fase gasosa a alta temperatura, como a decomposição térmica de halogenetos metálicos, metais orgânicos, hidrocarbonetos, etc., a redução de hidrogénio ou a...

Equipamento de forno de deposição química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

Equipamento de forno de deposição química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

O forno horizontal de deposição química de vapor (SiC, BN) pode ser utilizado para o revestimento de superfícies de materiais, modificação de substratos, preparação de materiais compósitos, etc. Utilizado principalmente em...

Estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (conceção não normalizada e personalização) GST-CVD1600 aquecimento por indução CVD químico

Estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (design e personalização não padronizados) GST-CVD1600 Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução

O forno de deposição química de vapor CVD é uma peça fundamental do equipamento para a produção de materiais compósitos C/C, amplamente utilizados nas indústrias aeroespacial, de defesa,...

Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

O forno de deposição química de vapor CVD é uma peça fundamental do equipamento para a produção de materiais compósitos C/C, amplamente utilizados nas indústrias aeroespacial, de defesa,...