化学気相成長（CVD）装置
カスタマイズされた全体的なソリューションを提供する 高性能金属積層造形と表面処理 高度な製造技術に対する顧客のより高い要求に応えるため、顧客のニーズに応じて
設備カテゴリー
DED金属3Dプリンティング装置（レーザー積層造形システム）
レーザークラッディング装置
コールドスプレー添加剤コーティング装置
お問い合わせ
GSTXCVD MOCVD 有機金属化学気相成長装置
MOCVD（有機金属化学気相成長）装置は、主にGaN、GaAs、InPなどの化合物半導体材料のエピタキシャル成長に使用される。正確に...
GSTXCVD LPCVD 低圧化学蒸着装置
LPCVD低圧化学気相成長装置（科学研究用LPCVD）は、化学反応によって基板上に様々な機能性膜（主にSi₃N₄、SiO₂、ポリシリコン膜）を成膜する。.
GSTXCVD PECVD プラズマエンハンスト化学蒸着装置
PECVDプラズマエンハンスト化学気相成長装置は、主にクリーンな真空中で窒化シリコンや酸化シリコン薄膜を成長させるために使用される。.
正方形、円形、垂直または水平構造（非標準設計およびカスタマイズ）GST-CVD1600誘導加熱CVD化学蒸着炉装置
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...
GST-CVD1200誘導加熱CVD化学蒸着炉装置
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...