Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200
Apresentação das características do equipamento
O forno de deposição química de vapor CVD é uma peça fundamental do equipamento para a produção de materiais compostos C/C, amplamente utilizados nas indústrias aeroespacial, de defesa e de fabrico de alta qualidade. Este dispositivo utiliza aquecimento por indução de média frequência e apresenta um design de forno vertical com um mecanismo de elevação na parte inferior para uma carga e descarga eficientes. O sistema de controlo da temperatura utiliza um controlador de temperatura inteligente, controlado por programa, de marcas japonesas de renome, como a Shida Denki (ou marcas de topo equivalentes), garantindo uma regulação precisa da temperatura e a estabilidade do processo. O sistema completo inclui o corpo do forno, a fonte de alimentação de média frequência, o sistema de controlo eletrónico, o sistema de controlo de gás e o sistema de arrefecimento de água, integrando tecnologia avançada e controlo inteligente para fornecer um suporte robusto para a produção de alta qualidade de compósitos C/C.
O forno de deposição química de vapor CVD foi concebido com tecnologia avançada de aquecimento por indução de média frequência e uma estrutura de forno vertical, garantindo uma elevada eficiência de aquecimento e uma distribuição uniforme da temperatura. As suas vantagens incluem:
- Controlo preciso da temperatura e estabilidade: Equipado com um sistema de temperatura inteligente, controlado por programa, de marcas de renome como a Shida Denki ou equivalente, proporciona uma resposta rápida e uma regulação precisa da temperatura, garantindo uma elevada reprodutibilidade e estabilidade do processo durante a deposição.
- Elevada automatização e eficiência operacional: O design de elevação inferior para carregar e descarregar materiais minimiza a intervenção manual, aumentando assim a eficiência global da produção.
- Integração abrangente do sistema: A configuração completa inclui o corpo do forno, a fonte de alimentação de média frequência, o sistema de controlo eletrónico, o sistema de controlo de gás e o sistema de arrefecimento a água, todos a trabalhar em uníssono para fornecer um suporte fiável para processos de deposição complexos.
- Eficiência energética e benefícios ambientais: A conceção avançada do processo e o controlo inteligente optimizam o consumo de energia, reduzindo assim os custos de produção.
No sector aeroespacial, este dispositivo desempenha um papel fundamental no fabrico de revestimentos de barreira térmica (TBC). O TBC é um revestimento cerâmico de alto desempenho utilizado principalmente para proteger componentes como as pás das turbinas dos motores dos aviões contra temperaturas extremas. Com o seu controlo preciso da temperatura e capacidades de deposição uniforme, o forno assegura que o revestimento é denso e fortemente aderente, aumentando assim o tempo de vida e a fiabilidade dos TBCs e satisfazendo as exigências rigorosas de resistência a altas temperaturas e funcionamento seguro nos motores aeroespaciais.
| Não. | Parâmetro | Especificação |
| 1 | Estrutura do forno | Estrutura cilíndrica vertical com mecanismo de elevação inferior |
| 2 | Método de aquecimento | Aquecimento por indução de média frequência |
| 3 | Temperatura de operação | 2200℃ |
| 4 | Gama de temperaturas comuns | 850~1150℃ |
| 5 | Uniformidade de temperatura | 900±25℃, 1100±12.5℃ |
| 6 | Controlo da temperatura | Controlador de temperatura inteligente (Shida Denki FP23 ou equivalente), com controlo automático do programa e modos de ajuste manual da potência |
| 7 | Dimensões da câmara de trabalho | φ1200×H2500mm (diâmetro × altura) |
| 8 | Capacidade de carga | <2T |
| 9 | Tempo de rampa de aquecimento | 6~8h (da temperatura ambiente até 1200℃) |
| 10 | Potência de aquecimento | 300kw |
| 11 | Precisão do controlo da temperatura | ±2℃ durante a subida, ±1℃ durante a imersão |
| 12 | Nível de vácuo | ≤50Pa (com 4 conjuntos de bombas de válvula deslizante H150) |
| 13 | Tempo de bombagem | <50min (para atingir 50Pa em forno vazio a frio) |
| 14 | Taxa de compressão do forno a frio | ≤66,7Pa/h |
| 15 | Gases compatíveis | Azoto, gases de hidrocarbonetos contendo carbono |
| 16 | Posição da entrada de gás | Centro da parte superior |
| 17 | Caudal de gás | 300L/min |
| 18 | Tempo de funcionamento contínuo | 300h |
| 19 | Parâmetros da água de arrefecimento | Caudal: 30m³/h; Pressão: 0,15-0,25MPa |
| 20 | Pegada de equipamento | 6000×6000×6000mm (C×L×A) |
| - | Personalização | O forno CVD aquecido por indução GST-CVD1200 aceita personalização não normalizada |
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