Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

Comece agora

Apresentação das características do equipamento

O forno de deposição química de vapor CVD é uma peça fundamental do equipamento para a produção de materiais compostos C/C, amplamente utilizados nas indústrias aeroespacial, de defesa e de fabrico de alta qualidade. Este dispositivo utiliza aquecimento por indução de média frequência e apresenta um design de forno vertical com um mecanismo de elevação na parte inferior para uma carga e descarga eficientes. O sistema de controlo da temperatura utiliza um controlador de temperatura inteligente, controlado por programa, de marcas japonesas de renome, como a Shida Denki (ou marcas de topo equivalentes), garantindo uma regulação precisa da temperatura e a estabilidade do processo. O sistema completo inclui o corpo do forno, a fonte de alimentação de média frequência, o sistema de controlo eletrónico, o sistema de controlo de gás e o sistema de arrefecimento de água, integrando tecnologia avançada e controlo inteligente para fornecer um suporte robusto para a produção de alta qualidade de compósitos C/C.

amostras processadas
Lâminas de superligas de alta temperatura
Reparação de fissuras em lâminas de turbinas a gás
Lâminas de superligas de alta temperatura
Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

O forno de deposição química de vapor CVD foi concebido com tecnologia avançada de aquecimento por indução de média frequência e uma estrutura de forno vertical, garantindo uma elevada eficiência de aquecimento e uma distribuição uniforme da temperatura. As suas vantagens incluem:

  • Controlo preciso da temperatura e estabilidade: Equipado com um sistema de temperatura inteligente, controlado por programa, de marcas de renome como a Shida Denki ou equivalente, proporciona uma resposta rápida e uma regulação precisa da temperatura, garantindo uma elevada reprodutibilidade e estabilidade do processo durante a deposição.
  • Elevada automatização e eficiência operacional: O design de elevação inferior para carregar e descarregar materiais minimiza a intervenção manual, aumentando assim a eficiência global da produção.
  • Integração abrangente do sistema: A configuração completa inclui o corpo do forno, a fonte de alimentação de média frequência, o sistema de controlo eletrónico, o sistema de controlo de gás e o sistema de arrefecimento a água, todos a trabalhar em uníssono para fornecer um suporte fiável para processos de deposição complexos.
  • Eficiência energética e benefícios ambientais: A conceção avançada do processo e o controlo inteligente optimizam o consumo de energia, reduzindo assim os custos de produção.

No sector aeroespacial, este dispositivo desempenha um papel fundamental no fabrico de revestimentos de barreira térmica (TBC). O TBC é um revestimento cerâmico de alto desempenho utilizado principalmente para proteger componentes como as pás das turbinas dos motores dos aviões contra temperaturas extremas. Com o seu controlo preciso da temperatura e capacidades de deposição uniforme, o forno assegura que o revestimento é denso e fortemente aderente, aumentando assim o tempo de vida e a fiabilidade dos TBCs e satisfazendo as exigências rigorosas de resistência a altas temperaturas e funcionamento seguro nos motores aeroespaciais.

Não.ParâmetroEspecificação
1Estrutura do fornoEstrutura cilíndrica vertical com mecanismo de elevação inferior
2Método de aquecimentoAquecimento por indução de média frequência
3Temperatura de operação2200℃
4Gama de temperaturas comuns850~1150℃
5Uniformidade de temperatura900±25℃, 1100±12.5℃
6Controlo da temperaturaControlador de temperatura inteligente (Shida Denki FP23 ou equivalente), com controlo automático do programa e modos de ajuste manual da potência
7Dimensões da câmara de trabalhoφ1200×H2500mm (diâmetro × altura)
8Capacidade de carga<2T
9Tempo de rampa de aquecimento6~8h (da temperatura ambiente até 1200℃)
10Potência de aquecimento300kw
11Precisão do controlo da temperatura±2℃ durante a subida, ±1℃ durante a imersão
12Nível de vácuo≤50Pa (com 4 conjuntos de bombas de válvula deslizante H150)
13Tempo de bombagem<50min (para atingir 50Pa em forno vazio a frio)
14Taxa de compressão do forno a frio≤66,7Pa/h
15Gases compatíveisAzoto, gases de hidrocarbonetos contendo carbono
16Posição da entrada de gásCentro da parte superior
17Caudal de gás300L/min
18Tempo de funcionamento contínuo300h
19Parâmetros da água de arrefecimentoCaudal: 30m³/h; Pressão: 0,15-0,25MPa
20Pegada de equipamento6000×6000×6000mm (C×L×A)
-PersonalizaçãoO forno CVD aquecido por indução GST-CVD1200 aceita personalização não normalizada
Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200
Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200