Apparatuur voor chemische dampdepositie (CVD)
Totaaloplossingen op maat bieden voor hoogwaardige additieve metaalproductie en oppervlaktebehandeling volgens de behoeften van de klant om te voldoen aan de hogere eisen van klanten voor geavanceerde productietechnologie
Categorie Uitrusting
DED Metaal 3D Printing Uitrusting (Laser Additive Manufacturing Systeem)
Apparatuur voor lasercladding
Uitrusting voor laserharden
Apparatuur voor laserlassen
Laser reinigingsapparatuur
Koud neveladditief coating apparatuur
Onderdelen en software voor apparatuur
Onderdelen, verbruiksartikelen en software voor laserbekleding
Componenten, verbruiksartikelen en software voor laserharden
Onderdelen, verbruiksartikelen en software voor laserreiniging
Onderdelen, verbruiksartikelen en software voor laserlassen
Andere apparatuur Componenten, verbruiksartikelen en software
Alle onderdelen en software
Neem contact met ons op
GSTXCVD MOCVD Metaal Organische Chemische Damp Depositie apparatuur
MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) equipment is primarily used for the epitaxial growth of compound semiconductor materials such as GaN, GaAs, and InP. By precisely...
GSTXCVD VHTCVD Vacuum high temperature CVD furnace equipment
The vacuum high temperature CVD furnace uses high temperature chemical vapor deposition to deposit various thin films on the surface of the workpiece. It is...
GSTXCVD LPCVD-apparatuur voor chemische dampdepositie onder lage druk
LPCVD low-pressure chemical vapor deposition equipment (scientific research LPCVD) deposits various functional films (mainly Si₃N₄, SiO₂ and Poly silicon films) on substrates by chemical reaction...
GSTXCVD PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Equipment
PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition equipment is mainly used for the growth of silicon nitride and silicon oxide thin films in a clean vacuum...
GSTXCVD HFCVD Hot Wire Chemical Vapor Deposition Equipment
We have developed, designed and manufactured hot wire CVD diamond equipment, which is divided into two types: experimental equipment and production equipment. The equipment is...
GSTXCVD CVD/PECVD deposition equipment
CVD refers to a gas phase reaction at high temperature, such as thermal decomposition of metal halides, organic metals, hydrocarbons, etc., hydrogen reduction, or a...
GSTCVD-SiC(BN) horizontal chemical vapor deposition furnace (SiC, BN) equipment
Horizontal chemical vapor deposition furnace (SiC, BN) can be used for surface coating of materials, substrate modification, composite material preparation, etc. Mainly used in thermal...
Square, round, vertical or horizontal structure (non-standard design and customization) GST-CVD1600 induction heating CVD chemical vapor deposition furnace equipment
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...
GST-CVD1200 induction heating CVD chemical vapor deposition furnace equipment
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...