Equipamento de deposição química de vapor (CVD)
Fornecer soluções abrangentes e personalizadas para Fabricação aditiva de metais de alto desempenho e tratamento de superfície De acordo com as necessidades do cliente, para atender às suas crescentes demandas por tecnologia de fabricação avançada.
Categoria de equipamentos
Equipamento de Impressão 3D em Metal DED (Sistema de Fabricação Aditiva a Laser)
Equipamentos de revestimento a laser
Equipamento de revestimento a laser cilíndrico externo
Equipamento de revestimento a laser cilíndrico interno
Equipamento móvel robótico para revestimento a laser
Equipamentos personalizados para revestimento a laser
Equipamentos de revestimento a laser de ultra-alta velocidade
Outras máquinas de revestimento a laser
Todo o equipamento
Equipamento de endurecimento a laser
Equipamentos de soldagem a laser
Equipamentos de limpeza a laser
Equipamentos para revestimento aditivo por aspersão a frio
Componentes e software de equipamentos
Componentes, consumíveis e software para revestimento a laser
Componentes, consumíveis e software para endurecimento a laser
Componentes, consumíveis e software para limpeza a laser
Componentes, consumíveis e software para soldagem a laser
Outros componentes de equipamentos, consumíveis e software.
Todos os componentes e software
Entre em contato conosco

Equipamento de deposição química de vapor orgânico de metal GSTXCVD MOCVD
MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) equipment is primarily used for the epitaxial growth of compound semiconductor materials such as GaN, GaAs, and InP. By precisely...

Equipamento de forno CVD de alta temperatura a vácuo GSTXCVD VHTCVD
The vacuum high temperature CVD furnace uses high temperature chemical vapor deposition to deposit various thin films on the surface of the workpiece. It is...

Equipamento de deposição química de vapor de baixa pressão GSTXCVD LPCVD
LPCVD low-pressure chemical vapor deposition equipment (scientific research LPCVD) deposits various functional films (mainly Si₃N₄, SiO₂ and Poly silicon films) on substrates by chemical reaction...

Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma GSTXCVD PECVD
PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition equipment is mainly used for the growth of silicon nitride and silicon oxide thin films in a clean vacuum...

Equipamento de deposição química de vapor de fio quente GSTXCVD HFCVD
We have developed, designed and manufactured hot wire CVD diamond equipment, which is divided into two types: experimental equipment and production equipment. The equipment is...

Equipamento de deposição de CVD/PECVD GSTXCVD
CVD refers to a gas phase reaction at high temperature, such as thermal decomposition of metal halides, organic metals, hydrocarbons, etc., hydrogen reduction, or a...

Equipamento de forno de deposição química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)
Horizontal chemical vapor deposition furnace (SiC, BN) can be used for surface coating of materials, substrate modification, composite material preparation, etc. Mainly used in thermal...

Estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (design e personalização não padronizados) GST-CVD1600 Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...

Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...

