Equipamento de deposição química de vapor (CVD)

Fornecer soluções abrangentes e personalizadas para Fabricação aditiva de metais de alto desempenho e tratamento de superfície De acordo com as necessidades do cliente, para atender às suas crescentes demandas por tecnologia de fabricação avançada.

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Equipamento de deposição química de vapor orgânico de metal GSTXCVD MOCVD

Equipamento de deposição química de vapor orgânico de metal GSTXCVD MOCVD

MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) equipment is primarily used for the epitaxial growth of compound semiconductor materials such as GaN, GaAs, and InP. By precisely...

Equipamento de forno CVD de alta temperatura a vácuo GSTXCVD VHTCVD

Equipamento de forno CVD de alta temperatura a vácuo GSTXCVD VHTCVD

The vacuum high temperature CVD furnace uses high temperature chemical vapor deposition to deposit various thin films on the surface of the workpiece. It is...

Equipamento de deposição química de vapor de baixa pressão GSTXCVD LPCVD

Equipamento de deposição química de vapor de baixa pressão GSTXCVD LPCVD

LPCVD low-pressure chemical vapor deposition equipment (scientific research LPCVD) deposits various functional films (mainly Si₃N₄, SiO₂ and Poly silicon films) on substrates by chemical reaction...

Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma GSTXCVD PECVD

Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma GSTXCVD PECVD

PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition equipment is mainly used for the growth of silicon nitride and silicon oxide thin films in a clean vacuum...

Equipamento de deposição química de vapor de fio quente GSTXCVD HFCVD

Equipamento de deposição química de vapor de fio quente GSTXCVD HFCVD

We have developed, designed and manufactured hot wire CVD diamond equipment, which is divided into two types: experimental equipment and production equipment. The equipment is...

Equipamento de deposição de CVD/PECVD GSTXCVD

Equipamento de deposição de CVD/PECVD GSTXCVD

CVD refers to a gas phase reaction at high temperature, such as thermal decomposition of metal halides, organic metals, hydrocarbons, etc., hydrogen reduction, or a...

Equipamento de forno de deposição química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

Equipamento de forno de deposição química de vapor horizontal GSTCVD-SiC(BN) (SiC, BN)

Horizontal chemical vapor deposition furnace (SiC, BN) can be used for surface coating of materials, substrate modification, composite material preparation, etc. Mainly used in thermal...

Estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (conceção não normalizada e personalização) GST-CVD1600 aquecimento por indução CVD químico

Estrutura quadrada, redonda, vertical ou horizontal (design e personalização não padronizados) GST-CVD1600 Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução

The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...

Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

Equipamento de forno de deposição química de vapor CVD para aquecimento por indução GST-CVD1200

The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...