أجهزة الترسيب الكيميائي للبخار (CVD)
توفير حلول شاملة مخصصة لـ التصنيع الإضافي للمعادن عالية الأداء ومعالجة الأسطح وفقًا لاحتياجات العملاء لتلبية متطلبات العملاء الأعلى لتكنولوجيا التصنيع المتقدمة
فئة المعدات
معدات الطباعة ثلاثية الأبعاد للمعادن بتقنية DED (نظام التصنيع الإضافي بالليزر)
معدات الكسوة بالليزر
معدات التصلب بالليزر
معدات اللحام بالليزر
معدات التنظيف بالليزر
معدات طلاء الإضافات بالرش البارد
تواصل معنا
جهاز ترسيب البخار الكيميائي العضوي المعدني GSTXCVD MOCVD
MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) equipment is primarily used for the epitaxial growth of compound semiconductor materials such as GaN, GaAs, and InP. By precisely...
معدات فرن الترسيب الكيميائي البخاري الفراغي عالي الحرارة GSTXCVD VHTCVD
The vacuum high temperature CVD furnace uses high temperature chemical vapor deposition to deposit various thin films on the surface of the workpiece. It is...
جهاز ترسيب البخار الكيميائي منخفض الضغط GSTXCVD LPCVD
LPCVD low-pressure chemical vapor deposition equipment (scientific research LPCVD) deposits various functional films (mainly Si₃N₄, SiO₂ and Poly silicon films) on substrates by chemical reaction...
جهاز ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما GSTXCVD PECVD
PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition equipment is mainly used for the growth of silicon nitride and silicon oxide thin films in a clean vacuum...
جهاز ترسيب البخار الكيميائي بالأسلاك الساخنة GSTXCVD HFCVD
We have developed, designed and manufactured hot wire CVD diamond equipment, which is divided into two types: experimental equipment and production equipment. The equipment is...
معدات ترسيب GSTXCVD CVD/PECVD
CVD refers to a gas phase reaction at high temperature, such as thermal decomposition of metal halides, organic metals, hydrocarbons, etc., hydrogen reduction, or a...
معدات فرن الترسيب الكيميائي الأفقي للبخار (SiC، BN) GSTCVD-SiC(BN)
Horizontal chemical vapor deposition furnace (SiC, BN) can be used for surface coating of materials, substrate modification, composite material preparation, etc. Mainly used in thermal...
معدات فرن الترسيب الكيميائي للبخار بالتسخين الحثي GST-CVD1600 ذات الهيكل المربع أو الدائري أو الرأسي أو الأفقي (تصميم غير قياسي وقابل للتخصيص)
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...
معدات فرن الترسيب الكيميائي للبخار بالتسخين الحثي GST-CVD1200
The CVD Chemical Vapor Deposition Furnace is a critical piece of equipment for the production of C/C composite materials, widely used in the aerospace, defense,...