Industrielle Hochgeschwindigkeits-Plasma-Rotationselektroden-Zerstäubungsanlage (PREP) der nächsten Generation zur Pulverherstellung
Darstellung der Eigenschaften des Geräts
Die industrielle Hochgeschwindigkeits-Plasmazerstäubungsanlage der nächsten Generation (GSTPR-N) ist für die Massenproduktion von feinen Pulvern (15-53μm) aus Superlegierungen auf Nickelbasis und hochfesten Stählen konzipiert. Diese Anlage ermöglicht eine kontinuierliche und stabile Produktion mit Φ50mm- und Φ75mm-Elektroden bei Geschwindigkeiten bis zu 30.000 U/min. Sie zeichnet sich durch eine hohe Energiedichte mit Schmelztemperaturen von über 2600℃ aus und eignet sich daher für die Herstellung verschiedener Metallpulver. Seine kompakte Bauweise erfordert nur eine minimale Stellfläche und einfache Installationsbedingungen und erfüllt die Anforderungen der industriellen Massenproduktion.
Das Plasma-Rotations-Elektroden-Verfahren (PREP) ist ein Verfahren, bei dem das Ende eines mit hoher Geschwindigkeit rotierenden Elektrodenstabs durch einen Plasmabogen zum Schmelzen gebracht wird und die durch die Hochgeschwindigkeitsrotation des Elektrodenstabs erzeugte Zentrifugalkraft genutzt wird, um das geschmolzene Metall herauszuschleudern und in feine Tröpfchen zu zerstäuben. Die zerstäubten Metalltröpfchen werden nach dem Wärmeaustausch mit der Atmosphäre zu kugelförmigen Pulvern kondensiert.
Das Plasma Rotating Electrode Atomization Powdering (PREP) hat einzigartige verfahrenstechnische Vorteile. Zusammen mit den Zerstäubungspulververfahren (VIGA, EIGA, PA) ist es eines der wichtigsten Verfahren auf dem Markt. Die Plasma Rotating Electrode Powdering Technology ist eine der wichtigsten Technologien zur Herstellung hochwertiger sphärischer Metallpulver. Dabei wird die durch die Hochgeschwindigkeitsrotation der Elektrode erzeugte Zentrifugalkraft genutzt, um den Flüssigkeitsfilm in Tröpfchen zu zerteilen, die in einer inerten Atmosphäre zu kugelförmigen Pulvern zerstäubt und verfestigt werden.
Technische Vorteile von PREP
1. Hohe Geschwindigkeit, hohe Produktionseffizienz, niedrige Kosten, wirtschaftlich und zuverlässig
2. Hohe Sphärizität des Pulvers, geringer Hohlraumanteil, hohe Reinheit
3. Gute Leistungskonsistenz und Stabilität des Chargenpulvers
4. Deckung des Forschungs- und Produktionsbedarfs von kleinen Chargen und Chargen verschiedener Arten von Metallpulvern
Spezifische funktionelle Vorteile dieses Geräts
1. Durch die Kombination der Vorteile von Hochgeschwindigkeits- und Chargenproduktion kann eine kontinuierliche und stabile Produktion von Φ50/75mm-Elektrodenstäben bei 30.000 U/min erreicht werden, ohne die Vakuumbedingungen zu zerstören.
2. Die Gesamtkonstruktion des Geräts ist kompakt, die Gesamthöhe ist gering, die Stellfläche ist klein und die Installationsbedingungen sind einfach.
3. Hohe Energiedichte, Schmelztemperatur höher als 2600℃, können verschiedene Arten von Metallpulvern wie Hochtemperatur-Legierungen und feuerfesten Legierungen produzieren.
4. Hohe Sphärizität, fast kein hohles Pulver und Satellitenpulver.
5. Berührungslose Pulverherstellung während des gesamten Prozesses, hohe Pulverreinheit, Sauerstoffinkrement ≤100ppm.
6. Geeignet für die Chargenproduktion von feinem Pulver (15-53μm) aus Metallpulvern wie Hochtemperaturlegierungen auf Nickelbasis und hochfestem Stahl.
| Art der Ausrüstung | GSTPR-N50 | GSTPR-N75 |
| Rotationsgeschwindigkeit | ~30000 U/min | ~25000 U/min |
| Durchmesser der Elektroden | Φ50 mm | Φ75 mm |
| Morphologie des Pulvers | sphärischer Satz≥95% | sphärischer Satz≥95% |
| Partikelgröße | D50<53 μm (IN718) | D50<105 μm (TA15) |
| Sauerstoff-Inkrement | ≤50 ppm (IN718) | ≤100 ppm (Ti) |
| Produktionskapazität | 6~10 kg/h (IN718) | 20~30 kg/h (Ti) |
| Atmosphäre | Ar oder He | Ar oder He |
| Maximale Leistung | ~260 kW | ~300 kW |
| Bodenfläche | 6 m×6 m×5 m | 8 m×7 m×6 m |
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