Высоковакуумная испарительная установка для нанесения покрытий электронным пучком (PVD оборудование для нанесения покрытий) - это метод нагрева и испарения материалов бомбардировкой электронным пучком в условиях высокого вакуума для нанесения на подложки различных металлов, оксидов, проводящих пленок, оптических пленок, полупроводниковых пленок, ферроэлектрических пленок, сверхтвердых пленок и т.д.; она может покрывать однослойные пленки, многослойные пленки или легированные пленки из смесей; она может покрывать различные материалы с высокой температурой плавления.

Он может использоваться для производства, научных экспериментов и обучения, и может быть настроен в соответствии с требованиями пользователя.

В соответствии с требованиями пользователя можно выбрать два режима автоматического контроля толщины пленки кварцевого кристалла и автоматического контроля толщины оптической пленки. Благодаря сочетанию ПЛК и промышленного компьютера можно автоматически управлять всем процессом нанесения покрытия, включая вакуумную систему, систему выпечки, процесс испарения и функции контроля толщины пленки, тем самым повышая эффективность работы и обеспечивая постоянство и стабильность качества продукции.

Характеристики оборудования

Оборудование обладает такими характеристиками, как высокий вакуум, высокая скорость откачки, удобство загрузки и выгрузки подложек. Оно оснащено источником электронно-лучевого испарения типа E и источником резистивного испарения. ПИД-автоматический контроль температуры имеет преимущества равномерного формирования пленки, малого объема дегазации и равномерной температуры.
В соответствии с требованиями пользователя, можно выбрать два режима автоматического контроля толщины пленки кварцевого кристалла и автоматического контроля толщины оптической пленки. Благодаря сочетанию ПЛК и промышленного компьютера можно автоматически управлять всем процессом нанесения покрытия, включая вакуумную систему, систему выпечки, процесс испарения и функции контроля толщины пленки, что позволяет повысить эффективность работы и обеспечить постоянство и стабильность качества продукции.
Вакуумная производительность
Предельный вакуум: 7×10-5Pa～7×10-6Pa
Общий уровень утечки оборудования: отключение на 12 часов, ≤10Pa
Короткое время восстановления рабочего вакуума, атмосферы до 7×10-4Pa≤30 минут;

Высоковакуумная электронно-лучевая испарительная машина для нанесения покрытий (электронно-лучевая испарительная машина для нанесения покрытий) Состав оборудования
Электронно-лучевая испарительная пушка E-типа, источник термического испарения сопротивления в сборе (опция), система перегородки маски образца, система сбора вакуума и система измерения вакуума, вакуумный блок молекулярного насоса или вакуумный блок криогенного насоса, вращающийся стол для нагрева подложки, тракт рабочего газа, механизм переноса образца, система контроля толщины пленки, электронная система управления, система охлаждения воды постоянной температуры и т.д.
Дополнительно: монитор толщины пленки, резервуар с охлаждающей водой постоянной температуры.
Дополнительно: машина для нанесения покрытия + перчаточный ящик

Тип источника резистивного термического испарения
- Тантал (вольфрам или молибден) металлическая лодка термического испарения компонент источника
- Кварцевая лодка с источником термического испарения
- Вольфрамовый электрод или вольфрамовый синий компонент источника термического испарения
- Компонент источника термического испарения танталовой печи (с тиглем из нитрида бора или керамическим тиглем)
- Компонент термического испарения печи источника пучка (с кварцевым тиглем или тиглем из нитрида бора)
Режим работы: ручной, полуавтоматический