機器の特性のプレゼンテーション
CVD化学気相成長炉は、航空宇宙、防衛、ハイエンド製造業で広く使用されているC/C複合材料の製造に不可欠な装置です。この装置は中周波誘導加熱を利用し、効率的な搬出入のために底部にリフト機構を備えた縦型炉の設計が特徴です。温度制御システムには、志田電機(または同等の一流ブランド)など日本の有名ブランドのインテリジェントなプログラム制御温度制御装置を採用し、正確な温度調節とプロセスの安定性を保証します。炉本体、中周波電源、電子制御システム、ガス制御システム、水冷システムから構成される完全なシステムは、先進技術とスマート制御を統合し、C/Cコンポジットの高品質生産を強力にサポートします。.
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CVD化学気相成長炉は、先進的な中周波誘導加熱技術と縦型炉構造で設計され、高い加熱効率と均一な温度分布を確保します。その利点は以下の通りです:
- 正確な温度制御と安定性: 志田電機など有名ブランドのインテリジェントなプログラム制御温度システムを搭載し、迅速な応答と正確な温度調節を実現し、蒸着中の高い再現性とプロセスの安定性を保証します。.
- 高い自動化と作業効率: 材料の積み下ろしのための底部昇降設計は、手作業による介入を最小限に抑え、全体的な生産効率を高めます。.
- 包括的なシステム統合: セットアップには、炉本体、中周波電源、電子制御システム、ガス制御システム、水冷システムが含まれ、これらが一体となって複雑な蒸着プロセスを確実にサポートする。.
- エネルギー効率と環境への恩恵: 高度なプロセス設計とインテリジェントな制御がエネルギー消費を最適化し、生産コストを削減する。.
航空宇宙分野では、この装置はサーマル・バリア・コーティング(TBC)の製造において極めて重要な役割を果たしている。TBCは、主に航空機エンジンのタービンブレードなどの部品を極端な温度から保護するために使用される高性能セラミックコーティングです。精密な温度制御と均一な成膜能力により、この炉はコーティングの緻密性と強固な密着性を確保し、TBCの寿命と信頼性を向上させ、航空宇宙エンジンの高温耐久性と安全運転に対する厳しい要求を満たします。.
| そうだ。. | パラメータ | 仕様 |
| 1 | 炉の構造 | 底部リフトアウト機構付き縦型円筒デザイン |
| 2 | 加熱方法 | 中周波誘導加熱 |
| 3 | 動作温度 | 2200℃ |
| 4 | 共通温度範囲 | 850~1150℃ |
| 5 | 温度均一性 | 900±25℃, 1100±12.5℃ |
| 6 | 温度管理 | インテリジェント温度コントローラー(志田電機FP23または同等品)、自動プログラム制御および手動パワー調整モードを提供 |
| 7 | 作業室寸法 | φ1200×H2500mm(直径×高さ) |
| 8 | 積載量 | <2T |
| 9 | 加熱ランプ時間 | 6~8時間(室温から1200℃まで) |
| 10 | 加熱パワー | 300kw |
| 11 | 温度制御精度 | ランプアップ時±2℃、ソーク時±1 |
| 12 | 真空レベル | ≤50Pa以下(H150スライディングバルブポンプ4セット使用時) |
| 13 | ポンピング時間 | <50分(低温空炉で50Paに達するまで) |
| 14 | 冷間炉圧縮率 | ≤66.7Pa/h |
| 15 | 適合ガス | 窒素、炭素を含む炭化水素ガス |
| 16 | ガス注入口位置 | トップ中央 |
| 17 | ガス流量 | 300L/分 |
| 18 | 連続運転時間 | 300h |
| 19 | 冷却水パラメータ | 流量:30m³/h、圧力:0.15-0.25MPa |
| 20 | 機材フットプリント | 6000×6000×6000mm (L×W×H) |
| - | カスタマイズ | GST-CVD1200誘導加熱式CVD炉は標準仕様以外のカスタマイズも可能です。 |
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