当社は熱線CVDダイヤモンド装置を開発、設計、製造しており、実験装置と製造装置の2つのカテゴリーに分けられる。.
本装置は、主にミクロンおよびナノ結晶ダイヤモンド膜の研究開発および製造に使用されます。機械的、熱的、光学的、音響的ダイヤモンド製品の研究開発および製造に使用できます。.
ハイパワーデバイス、高周波デバイス、ハイパワーレーザーのヒートシンク用の大型ダイヤモンド多結晶ウェハーを製造することができる。.
耐食性、耐摩耗性の硬質コーティング、環境保護分野における下水処理用ダイヤモンド製品の製造に使用できる。.
平らなワークピース上のダイヤモンド膜の調製に使用できるほか、工具表面やその他の不規則な表面上のダイヤモンドハードコーティングの調製にも使用できます。.
太陽薄膜電池の研究開発や生産に利用できる。.

ワークサイズ
円形平面ワークのサイズ：最大φ600mm。.
長方形のワークサイズの幅は1000mm/長さであり、これはコーティングチャンバーの長さに応じて決定することができる（例えば、ワークの長さは1500mmである）。.
水冷式試料台を装備。.
片面または両面にコーティングすることができる。.