機器の特性のプレゼンテーション
GSTMSシリーズマグネトロンスパッタ成膜装置は、シングルボディのスパッタ成膜装置です。複数の分子ポンプにより、優れた真空条件と安定したスパッタリング条件を提供します。.
加工サンプル
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GSTMS-1800 Main Specifications
基本性能
動作条件
GSTMSシリーズマグネトロンスパッタ成膜装置は、一体型スパッタ成膜装置です。複数の分子ポンプにより、優れた真空条件と安定したスパッタリング条件を提供します。.
装備の特徴
キャビティサイズφ1200-φ2000mm;;
陽極層イオン源/グリッドレスRF ICPシステムを使用;;
ACS全自動塗装制御システムにより全自動塗装を実現;;
ワークラックは、マルチピースラックタイプ/遊星構造;;
オイルフリーエキゾーストシステムはカスタマイズ可能;;
製膜工程や状態を多角的に観察することができる;;
| 項目 | 仕様 |
| 真空チャンバーサイズ | SUS304 φ1920mm×1700mm(H) |
| ワークラック | マルチピース・ハンギング・アセンブリー構造 |
| ワークラックの寸法 | φ1800×1150 |
| 基板回転速度 | 3r/min~30r/min(可変) |
| 反応速度制御モード | 反応速度制御 スピードロ / 直接反応 |
| ターゲット・ソース | Rotary/planar cathodes, mid-frequency/DC, 2–6 pairs |
| ターゲット・ソース・コントロール | 水晶振動子制御/積算時間制御 |
| イオン源 | アノード層イオンソース / RF-ICP |
| 真空ポンプ | メカニカルポンプ + ターボポンプ / クライオポンプ / 低温トラップポンプ |
| 項目 | 仕様 |
| 究極の真空 | 2.5×10-⁴Pa |
| ポンピング時間 | 大気圧から4.0×10-³Paまで無負荷、室温で15分 |
| 基板温度 | Maximum 350°C |
| 項目 | 仕様 |
| スペース要件 | Approx. 5.1m (W) × 5.6m (D) × 3m (H) |
| 電源要件 | Three-phase, five-wire, 380V, 50Hz, approx. 80kW |
| 冷却水要件 | 160L/min, 0.2–0.3MPa, 10–35°C |
| 圧縮空気 | 0.6MPa |
| 機材重量 | Approx. 14000kg |
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