GSTMS-1800 マグネトロンスパッタ装置

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機器の特性のプレゼンテーション

GSTMSシリーズマグネトロンスパッタ成膜装置は、シングルボディのスパッタ成膜装置です。複数の分子ポンプにより、優れた真空条件と安定したスパッタリング条件を提供します。.

加工サンプル
GSTMS-1800 マグネトロンスパッタ装置
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GSTMSシリーズマグネトロンスパッタ成膜装置は、一体型スパッタ成膜装置です。複数の分子ポンプにより、優れた真空条件と安定したスパッタリング条件を提供します。.

装備の特徴
キャビティサイズφ1200-φ2000mm;;
陽極層イオン源/グリッドレスRF ICPシステムを使用;;
ACS全自動塗装制御システムにより全自動塗装を実現;;
ワークラックは、マルチピースラックタイプ/遊星構造;;
オイルフリーエキゾーストシステムはカスタマイズ可能;;
製膜工程や状態を多角的に観察することができる;;

項目仕様
真空チャンバーサイズSUS304 φ1920mm×1700mm(H)
ワークラックマルチピース・ハンギング・アセンブリー構造
ワークラックの寸法φ1800×1150
基板回転速度3r/min~30r/min(可変)
反応速度制御モード反応速度制御 スピードロ / 直接反応
ターゲット・ソースRotary/planar cathodes, mid-frequency/DC, 2–6 pairs
ターゲット・ソース・コントロール水晶振動子制御/積算時間制御
イオン源アノード層イオンソース / RF-ICP
真空ポンプメカニカルポンプ + ターボポンプ / クライオポンプ / 低温トラップポンプ
GSTMS-1800 Main Specifications
項目仕様
究極の真空2.5×10-⁴Pa
ポンピング時間大気圧から4.0×10-³Paまで無負荷、室温で15分
基板温度Maximum 350°C
基本性能
項目仕様
スペース要件Approx. 5.1m (W) × 5.6m (D) × 3m (H)
電源要件Three-phase, five-wire, 380V, 50Hz, approx. 80kW
冷却水要件160L/min, 0.2–0.3MPa, 10–35°C
圧縮空気0.6MPa
機材重量Approx. 14000kg
動作条件

GSTMS-1800 マグネトロンスパッタ装置