GST-T200-Anlage zum selektiven Elektronenstrahlschmelzen (EBM/SEBM) (Massenproduktion komplexer Teile mit hoher Präzision und niedrigen Kosten)
Darstellung der Eigenschaften des Geräts
High-power, high-precision, long-life thermal electron gun and larger forming size
Applicable to the mass, high-precision, low-cost production of complex parts such as orthopedic implants and TiAl brittle and difficult-to-process materials
Maximum forming size: 200×200×450mm; Applicable materials: medical materials such as titanium and titanium alloys, tantalum, zirconium and niobium; brittle and difficult-to-process materials such as titanium and aluminum; refractory metals and alloys such as tungsten and niobium
| Max. Baugröße | 200×200×450 mm |
| Strahlleistung | 6 kW |
| Elektronenbeschleunigungsspannung | 60 kV |
| Strahlstrom | 0~100 mA |
| Lebensdauer des Glühfadens | >500 h |
| Kathoden-Typ | Indirekt beheizte Wolframkathode |
| Min. Strahldurchmesser | ≤200 μm |
| Max. Vorwärmtemperatur des Pulverbettes | 1100 ℃ |
| Ultimatives Vakuum | 5×10-3 Pa |
| Baugenauigkeit der Komponenten | ±0.2 mm |
| Externe Dimension | 2400×1900×3600 mm3 |
| Gewicht der Maschine | 4.5 t |
| CAD (Schnittstelle) | STL |
| Steuerungssoftware | SEBM-ICS |
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