GSTXCVD VHTCVD Vakuum-Hochtemperatur-CVD-Ofenausrüstung
Darstellung der Eigenschaften des Geräts
Der Vakuum-Hochtemperatur-CVD-Ofen nutzt die chemische Gasphasenabscheidung bei hohen Temperaturen, um verschiedene dünne Schichten auf der Oberfläche des Werkstücks abzuscheiden. Er ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet, u. a. für die Abscheidung großflächiger Isoliermaterialien sowie der meisten Metallwerkstoffe und Metalllegierungen, wie z. B. Tantalkarbidbeschichtungen und Siliziumkarbidbeschichtungsmaterialien.
Der Vakuum-Hochtemperatur-CVD-Ofen nutzt die chemische Gasphasenabscheidung bei hohen Temperaturen, um verschiedene dünne Schichten auf der Oberfläche des Werkstücks abzuscheiden. Er findet breite Anwendung in der Halbleiterindustrie und in der Luft- und Raumfahrt für Wärmedämmschichten, einschließlich der Abscheidung großflächiger Isoliermaterialien, sowie für die meisten Metallwerkstoffe und Metalllegierungen wie Tantalkarbidbeschichtungen und Siliziumkarbidbeschichtungsmaterialien.
So können beispielsweise Tantalkarbid- und Siliziumkarbidschichten auf die Oberfläche von Graphitwerkstücken aufgebracht werden.
Es eignet sich für Produktionsunternehmen und Materiallabors großer Universitäten, wissenschaftlicher Forschungsinstitute, Umweltwissenschaften und anderer Bereiche.
Zusammensetzung der Ausrüstung
Das Gehäuse des Ofens besteht aus rostfreiem Stahl, hat eine doppelschichtige wassergekühlte Struktur und ist mit einem Beobachtungsfenster, einem Infrarot-Temperaturmessfenster und einem Thermoelement-Temperaturmessgerät ausgestattet.
Heizungsanlage
In der Anlage ist eine Heizung installiert, um ein Wärmefeld für die Dünnschichtabscheidung zu erzeugen.
Probenbühnensystem
Der Probentisch kann mehrere Werkstücke gleichzeitig aufnehmen.
Temperaturmessung und Stromversorgung für die Heizung
1. Thermoelemente/Wolfram-Rhenium-Thermoelemente/Infrarotthermometer werden zur Temperaturkontrolle und -erfassung verwendet.
2. Die Leistung der Heizstromversorgung wird entsprechend den tatsächlichen Anforderungen angepasst.
| Typ | Parameter |
| Strom | Ungefähr 150 kW |
| Betriebstemperatur des Heizgeräts | ≤2200°C |
| Vakuum Niveau | 6,67×10-³Pa (kalt, unbelastet) |
| Druckanstiegsrate | 0,08Pa/h |
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