Anlagen zur physikalischen Gasphasenabscheidung (EBPVD)

Bieten Sie maßgeschneiderte Gesamtlösungen für Additive Fertigung und Oberflächenbehandlung von Hochleistungsmetallen entsprechend den Kundenbedürfnissen, um den höheren Anforderungen der Kunden an eine fortschrittliche Fertigungstechnologie gerecht zu werden

Kategorie Ausrüstungen

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Anlagen für die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (EB-PVD) [Physikalische Abscheidung aus der Gasphase mit Elektronenstrahl für Schutzschichten

Ausrüstung für die physikalische Gasphasenabscheidung mittels Elektronenstrahlen (EB-PVD) [Physikalische Gasphasenabscheidung mittels Elektronenstrahlen für Schutzschichten (MCrAlY) und Wärmedämmschichten (TBC)]

In einer Vakuumumgebung wird ein Elektronenstrahl mit hoher Energiedichte verwendet, um das verdampfte Material in einem wassergekühlten Tiegel zu beschießen, wodurch es schmilzt und...

Hochvakuumbeständige thermische Verdampfungsbeschichtungsmaschine (PVD-Beschichtungsanlage für physikalische Gasphasenabscheidung)

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Hochvakuum-Widerstand thermische Verdampfung Beschichtung Maschine (PVD-Beschichtungsanlagen) nimmt Widerstand thermische Verdampfung Technologie. Es legt verschiedene Verbindungen, Mischungen, einzelne Schichten oder mehrschichtige Filme...

Hochvakuum-Elektronenstrahl-Verdampfungsbeschichtungsanlage (PVD-Beschichtungsanlage zur physikalischen Gasphasenabscheidung)

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Hochvakuum-Elektronenstrahl-Beschichtungsanlage (PVD-Beschichtungsanlage) verwendet Elektronenstrahl-Beschuss zum Erhitzen und Verdampfen von Materialien unter Hochvakuumbedingungen, um...

Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine für wissenschaftliche Forschung, physikalische Gasphasenabscheidung, PVD-Ausrüstung

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Wissenschaftliche Forschung Typ Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage GST-CS-Serie ist unser Unternehmen die wissenschaftliche Forschung und Pilot Typ Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Instrument, das...