Buse d'alimentation en poudre coaxiale refroidie à l'eau à longue focale pour le rechargement laser

Présentation des caractéristiques de l'équipement

Le Buse de rechargement laser annulaire coaxiale à longue focale refroidie à l'eau pour alimentation en poudre à partir de Pierre verte est conçu spécifiquement pour Rechargement laser à haute vitesse / DED (Dépôt d'énergie dirigée) Là où une grande portée, une puissance élevée et une homogénéité de revêtement sont essentielles. Conçue pour les environnements de production et de réparation exigeants, cette buse offre une grande stabilité. flux de poudre annulaire coaxial (en forme d'anneau) qui converge précisément au niveau de la zone de dépôt, assurant ainsi un comportement régulier du bain de fusion et une formation de couches hautement reproductible.

Conçu pour gérer fonctionnement laser de haute puissance pendant des périodes prolongées, la buse utilise cuivre à haute conductivité thermique (cuivre violet) pour améliorer la dissipation de la chaleur, tandis que configuration de refroidissement par eau Améliore la stabilité thermique lors du revêtement continu. La structure optimisée d'alimentation en poudre produit un flux de poudre fin et bien contrôlé, facilitant la formation revêtements denses avec une adhérence fiable et une qualité de surface optimale — idéal pour les revêtements résistants à l'usure et à la corrosion, la remise à neuf et la réparation de composants de grande valeur.

Avec son conception à long terme et Distance de travail de 19 à 23 mmCette buse est parfaitement adaptée aux géométries complexes et aux applications où la distance de projection est cruciale. Son flux de poudre coaxial, indépendant de la direction, garantit des résultats constants même sur des contours variés, réduisant ainsi les défauts courants et améliorant la robustesse globale du procédé pour les systèmes de rechargement laser industriels.

  • Procédé stable d'alimentation coaxiale en poudre : Contribue à prévenir les défauts tels que porosité, ondulation et incohérence liée à la direction.

  • Excellente focalisation du jet de poudre : Permet une correspondance précise entre concentration sur la poudre et point laser, Maximisant efficacité d'utilisation de la poudre.

  • Contrôle adaptatif de l'épaisseur de dépôt : Réduit épaisseur de revêtement irrégulière et améliore la stabilité et la répétabilité du processus.

  • Distribution uniforme de la poudre (indépendante de la direction) : La distribution de poudre n'est pas affectée par le sens de déplacement, ce qui la rend adaptée à tout contour ou profil.

  • Longue distance de mise au point : Supporte un revêtement stable à 19 – 23 mm Écartement, améliorant l'accessibilité des pièces complexes.

  • Capacité de puissance continue élevée : Conçu pour un fonctionnement de longue durée ; puissance laser recommandée jusqu'à 8 kW.

  • Corps en cuivre + refroidissement par eau : Gestion thermique améliorée pour des performances stables dans les environnements de revêtement à grande vitesse.

ProduitSpécifications
Nom du produitBuse annulaire coaxiale à longue focale
ModèleDEDN-752002
Méthode de refroidissementEau froide
TypeCoaxial
Distance de travail19 – 23 mm
Nombre de flux de poudre2
Taille des particules de poudre53–150 μm
Forme d'écoulement de poudreAnnulaire (anneau)
Taux d'alimentation en poudre1–45 g/min
Taille du point de poudre1.5 – 2.5 mm
Poids0.62 kg
Dimensions100 × 114.5 x 49 mm
Puissance laser recommandée8 kW

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